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理想晶延荣获2025年度上海市高端智能装备首台突破专项支持
近日,理想晶延凭借“用于钙钛矿电池的原子层沉积设备首台突破”项目,成功入选2025年度上海市高端智能装备首台突破专项支持名单,该项目被认定为国际首台,所属先进能源装备领域,进一步彰显了理想晶延在核心技术自主创新领域的硬核实力。此次专项支持依据《上海市促进产业高质量发展专项资金项目管理办法》、《上海市促进产业高质量发展专项资金产业链攻关与创新应用实施细则》等相关规定,经专家严格评审后正式立项。作为钙钛矿电池领域的关键核心设备,理想晶延自主研发创新的原子层沉积设备,将有力推动装备制造业高端化、智能化、自主化发展,为先进能源产业升级提供强劲支撑。理想晶延自成立以来,始终聚焦高端装备自主创新,此次入选是对公司技术研发能力与产业化实力的高度认可。未来,理想晶延将持续深耕高端装备研发,严格按照专项项目实施要求推进项目落地,不断突破技术瓶颈,提升产品核心竞争力,深化产业链协同创新,为上海市产业高质量发展贡献更多力量。
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晶延荣誉 | 创新引领,理想晶延浙江子公司荣获【高新技术企业】认证
近日,理想晶延半导体设备(浙江)有限公司凭借在光伏高端装备领域出色的技术实力与创新业绩,成功获得【高新技术企业】认证。未来,理想晶延将持续加大核心技术研发投入,为光伏与泛半导体产业高质量发展注入强劲动力。
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晶延党建 | “创新促发展,奋斗新时代”12月主题党日活动圆满举行
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晶延党建 |“学先进 比干劲 谋发展”理想晶延11月主题党日活动圆满举行
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“突出贡献奖+重磅演讲”!理想晶延亮相2025真空技术创新发展论坛
12月26日,由上海市真空学会主办的2025真空技术创新发展论坛暨上海市真空学会学术年会盛大启幕。理想晶延作为真空镀膜领域的领军企业受邀参会,并在大会颁奖环节斩获【突出贡献奖】,进一步彰显公司在真空技术与装备创新领域的硬核实力与行业影响力。同期,公司产品工艺总监魏青竹博士登台发表《ALD和CVD真空镀膜设备》主题演讲,深度分享企业在高端镀膜装备领域的技术突破与创新实践,引发全场热烈反响。在主题报告中,魏青竹博士结合理想晶延多年深耕光伏与半导体高端装备的研发经验,系统阐述了原子层沉积(ALD)和化学气相沉积(CVD)技术在真空镀膜设备中的应用现状与未来发展趋势。理想晶延自主研发的ALD设备凭借创新结构设计,实现了工艺效率与材料利用率的双重提升,核心性能指标达到国际先进水平,已成功获得海内外头部光伏企业的批量订单;旗下CVD设备搭载自主研发的核心工艺技术,在光伏电池量产环节展现出显著的降本增效价值,为高效钙钛矿叠层电池的研发与量产提供了关键设备支撑。在现场交流环节,众多参会专家、企业代表对理想晶延的技术成果表现出浓厚兴趣,围绕设备性能优化、工艺适配等话题展开深入探讨,进一步强化了行业对国产高端真空镀膜设备的信心。作为聚焦光伏与半导体领域高端装备的创新型企业,理想晶延自成立以来便锚定ALD、PECVD等核心技术赛道持续攻坚,成功研制出平板式ALD设备、EPD侧壁钝化设备、钙钛矿电池用空间型ALD薄膜沉积设备等一系列产品,并广泛应用于研发和量产的光伏电池生产线,获得国内外行业头部企业的高度认可,公司先后获认定为国家高新技术企业、国家专精特新“小巨人”企业、上海市科技小巨人企业等重量级资质认定。此次理想晶延荣获行业大奖,不仅是对公司技术实力的权威肯定,更是对公司赋能真空镀膜产业高质量发展突出贡献的高度认可。未来,理想晶延将继续深耕自主研发,深度参与行业生态建设,以国产高端装备助力“双碳”目标与半导体自主战略实现,为产业高质量发展注入新动能!
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