12月26日，由上海市真空学会主办的2025真空技术创新发展论坛暨上海市真空学会学术年会盛大启幕。理想晶延作为真空镀膜领域的领军企业受邀参会，并在大会颁奖环节斩获【突出贡献奖】，进一步彰显公司在真空技术与装备创新领域的硬核实力与行业影响力。同期，公司产品工艺总监魏青竹博士登台发表《ALD和CVD真空镀膜设备》主题演讲，深度分享企业在高端镀膜装备领域的技术突破与创新实践，引发全场热烈反响。

在主题报告中，魏青竹博士结合理想晶延多年深耕光伏与半导体高端装备的研发经验，系统阐述了原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）技术在真空镀膜设备中的应用现状与未来发展趋势。理想晶延自主研发的ALD设备凭借创新结构设计，实现了工艺效率与材料利用率的双重提升，核心性能指标达到国际先进水平，已成功获得海内外头部光伏企业的批量订单；旗下CVD设备搭载自主研发的核心工艺技术，在光伏电池量产环节展现出显著的降本增效价值，为高效钙钛矿叠层电池的研发与量产提供了关键设备支撑。

在现场交流环节，众多参会专家、企业代表对理想晶延的技术成果表现出浓厚兴趣，围绕设备性能优化、工艺适配等话题展开深入探讨，进一步强化了行业对国产高端真空镀膜设备的信心。

作为聚焦光伏与半导体领域高端装备的创新型企业，理想晶延自成立以来便锚定ALD、PECVD等核心技术赛道持续攻坚，成功研制出平板式ALD设备、EPD侧壁钝化设备、钙钛矿电池用空间型ALD薄膜沉积设备等一系列产品，并广泛应用于研发和量产的光伏电池生产线，获得国内外行业头部企业的高度认可，公司先后获认定为国家高新技术企业、国家专精特新“小巨人”企业、上海市科技小巨人企业等重量级资质认定。

此次理想晶延荣获行业大奖，不仅是对公司技术实力的权威肯定，更是对公司赋能真空镀膜产业高质量发展突出贡献的高度认可。未来，理想晶延将继续深耕自主研发，深度参与行业生态建设，以国产高端装备助力“双碳”目标与半导体自主战略实现，为产业高质量发展注入新动能！