近日，理想晶延凭借“用于钙钛矿电池的原子层沉积设备首台突破”项目，成功入选2025年度上海市高端智能装备首台突破专项支持名单，该项目被认定为国际首台，所属先进能源装备领域，进一步彰显了理想晶延在核心技术自主创新领域的硬核实力。此次专项支持依据《上海市促进产业高质量发展专项资金项目管理办法》、《上海市促进产业高质量发展专项资金产业链攻关与创新应用实施细则》等相关规定，经专家严格评审后正式立项。作为钙钛矿电池领域的关键核心设备，理想晶延自主研发创新的原子层沉积设备，将有力推动装备制造业高端化、智能化、自主化发展，为先进能源产业升级提供强劲支撑。理想晶延自成立以来，始终聚焦高端装备自主创新，此次入选是对公司技术研发能力与产业化实力的高度认可。未来，理想晶延将持续深耕高端装备研发，严格按照专项项目实施要求推进项目落地，不断突破技术瓶颈，提升产品核心竞争力，深化产业链协同创新，为上海市产业高质量发展贡献更多力量。

近日，理想晶延半导体设备（浙江）有限公司凭借在光伏高端装备领域出色的技术实力与创新业绩，成功获得【高新技术企业】认证。未来，理想晶延将持续加大核心技术研发投入，为光伏与泛半导体产业高质量发展注入强劲动力。

12月26日，由上海市真空学会主办的2025真空技术创新发展论坛暨上海市真空学会学术年会盛大启幕。理想晶延作为真空镀膜领域的领军企业受邀参会，并在大会颁奖环节斩获【突出贡献奖】，进一步彰显公司在真空技术与装备创新领域的硬核实力与行业影响力。同期，公司产品工艺总监魏青竹博士登台发表《ALD和CVD真空镀膜设备》主题演讲，深度分享企业在高端镀膜装备领域的技术突破与创新实践，引发全场热烈反响。在主题报告中，魏青竹博士结合理想晶延多年深耕光伏与半导体高端装备的研发经验，系统阐述了原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）技术在真空镀膜设备中的应用现状与未来发展趋势。理想晶延自主研发的ALD设备凭借创新结构设计，实现了工艺效率与材料利用率的双重提升，核心性能指标达到国际先进水平，已成功获得海内外头部光伏企业的批量订单；旗下CVD设备搭载自主研发的核心工艺技术，在光伏电池量产环节展现出显著的降本增效价值，为高效钙钛矿叠层电池的研发与量产提供了关键设备支撑。在现场交流环节，众多参会专家、企业代表对理想晶延的技术成果表现出浓厚兴趣，围绕设备性能优化、工艺适配等话题展开深入探讨，进一步强化了行业对国产高端真空镀膜设备的信心。作为聚焦光伏与半导体领域高端装备的创新型企业，理想晶延自成立以来便锚定ALD、PECVD等核心技术赛道持续攻坚，成功研制出平板式ALD设备、EPD侧壁钝化设备、钙钛矿电池用空间型ALD薄膜沉积设备等一系列产品，并广泛应用于研发和量产的光伏电池生产线，获得国内外行业头部企业的高度认可，公司先后获认定为国家高新技术企业、国家专精特新“小巨人”企业、上海市科技小巨人企业等重量级资质认定。此次理想晶延荣获行业大奖，不仅是对公司技术实力的权威肯定，更是对公司赋能真空镀膜产业高质量发展突出贡献的高度认可。未来，理想晶延将继续深耕自主研发，深度参与行业生态建设，以国产高端装备助力“双碳”目标与半导体自主战略实现，为产业高质量发展注入新动能！

11月27日-29日，第二十一届中国太阳级硅及光伏发电研讨会暨淮南市新能源产业“双招双引”推介会在安徽淮南隆重召开。作为光伏与泛半导体高端装备领域的领军企业，理想晶延深度参与本届行业盛会，并冠名赞助“边缘钝化技术：多分片组件提效新利器”分论坛，邀请了众多行业头部企业代表、高校科研团队等齐聚一堂，以技术分享、深度探讨为纽带，共探光伏产业高质量发展路径，为大会圆满成功注入强劲动力。聚焦行业痛点冠名分论坛搭建技术交流平台在光伏产业“效率为王、成本致胜”的竞争格局下，多分片组件技术因有效降低电流损耗、提升功率密度，已成为N型TOPCon、HJT等主流技术路线的重要升级方向。但在电池片切割过程中未钝化边缘会导致电池功率转换下降，严重制约组件效率提升，边缘钝化技术也因此成为破解这一行业痛点的关键“利器”。理想晶延冠名赞助的“边缘钝化技术：多分片组件提效新利器”分论坛，精准聚焦这一核心议题，吸引了德国莱茵TUV、阿特斯阳光电力、捷泰科技、润阳新能源、正泰新能等行业头部企业技术负责人，以及中国科学院宁波材料技术与工程研究所、河北大学、苏州大学、北京工业大学、浙江大学硅及先进半导体材料全国重点实验室等高校科研团队代表出席，共同围绕边缘钝化工艺优化、多分片组件量产应用等热点话题展开深度研讨，分享了从实验室研发到规模化生产的宝贵经验，为推动边缘钝化技术标准化、低成本化应用凝聚了行业共识。 主题演讲分享技术硬实力引领行业方向在大会期间，理想晶延王俊博士、苏青峰博士分别在两大核心分论坛发表主题演讲，以前沿技术分享与落地应用，赢得全场关注与高度好评。在“钙钛矿及叠层电池技术”分论坛上，王俊博士分享了《空间型ALD在钙钛矿（叠层）太阳电池中的应用》主题演讲，深入解析了空间型ALD技术在钙钛矿及叠层电池领域的应用潜力，展示了理想晶延在光伏高端装备领域的技术布局与创新应用。在理想晶延冠名“边缘钝化技术：多分片组件提效新利器”分论坛上，苏青峰博士发表《TOPCon电池边缘钝化提效研究进展：从半片到多分片》主题演讲，紧扣行业技术发展趋势，结合理想晶延在边缘钝化技术上的研发创新成果，分享了从工艺参数优化、设备稳定性控制到量产成本控制的全流程解决方案，为行业实现多分片组件高效量产提供了重要技术参考。此次深度参与行业盛会，既是理想晶延技术实力的多元呈现，也是公司推动行业技术交流创新发展的生动实践。未来，理想晶延将持续聚焦光伏产业效率提升与成本优化需求，深化核心技术在各类高效电池中的创新应用，同时积极搭建产业协同平台，与行业伙伴、科研院校携手共进，为推动光伏产业高质量发展，助力“双碳”目标达成贡献更多技术力量！