公司新闻
13
2025-06
公司新闻
圆满收官!理想晶延SNEC 2025 精彩落幕,感恩同行
6月11日-13日,为期三天的全球光伏行业盛会SNEC 2025 在上海圆满落幕!理想晶延携新技术与前沿设备盛装亮相,展台现场人气如虹,成为展会上闪耀焦点!展会期间,理想晶延展台荣幸接待了来自世界各地数百名专业访客,与全球顶尖客户、行业伙伴、研究学者等深入交流探讨。无论是高效量产核心工艺侧壁钝化EPD设备,还是引爆讨论的钙钛矿空间型ALD设备,理想晶延的技术专家团队与现场工作人员始终以饱满的热情、专业的知识,详尽解答客户的各类疑问,探讨合作路径与技术细节。现场技术演讲以及一对一深入交流,让众多潜在客户及合作伙伴对理想晶延的技术实力、产品性能与解决方案有了更深刻的认识和信任。本次展会,理想晶延成功地向全行业展示了公司在光伏核心装备领域的关键突破与持续创新能力,多项合作意向在热烈交流中达成初步共识。理想晶延SNEC 2025的成功,离不开每一位亲临展台的朋友们!在此,理想晶延向所有莅临指导、深入交流、给予关注与支持的客户、合作伙伴、专家学者及媒体朋友致以最诚挚的感谢!您的信任与认可是我们不断前进的动力。未来,理想晶延将持续推动技术革新、深化客户服务,以自主创新为核心驱动力,为客户提供具有核心竞争力的先进设备和工艺解决方案。
12
2025-06
公司新闻
SNEC 2025热度持续 | 理想晶延sALD设备成焦点,勾勒钙钛矿未来前景
SNEC 2025 进入第二天,光伏产业的热情丝毫未减。理想晶延展台(展位号:2.1H馆 C510)延续首日火爆态势,人潮依旧,交流不息!来自全国各地的参观者持续涌入,深入探讨技术细节、了解设备性能、探寻合作机遇!今日展台C位产品钙钛矿空间型ALD设备,吸引了大量对钙钛矿产业化进程深感兴趣的客户、研究机构和投资者专程前来,围绕理想晶延带来的核心技术与设备展开热烈探讨。在技术团队专业讲解与解答之下,使得理想晶延展台成为探讨钙钛矿封装、缓冲层沉积等关键挑战的“前沿论坛”。 理想晶延本次展出的行业首创空间型sALD设备,是针对钙钛矿太阳电池大面积、高效、稳定量产的核心挑战而量身打造,可提供覆盖实验室到GW级量产完整系列设备,工艺及KHOW-HOW无缝衔接。sALD系列设备,可应用于钙钛矿电池SnOx电子输出层以及Al2O3封装层等,设备机型分别适配于不同尺寸的研发、中试和量产需要,并且实现钙钛矿电池工艺条件从研发工艺向量产工艺的无缝转移,为实现大面积、高通量稳定量产铺平道路。该系列设备尺寸兼容性强、换型方便、成本低;多气路系统配置、可灵活应对技术研发需求;中试/量产设备采用模块化设计,产能匹配度更高;设备成膜速率快,工艺时间短,工艺窗口宽,源耗量低,设备平台量产稳定性好,开机率高。该系列设备各机型已获得国内外多家头部企业重复订单,累计钙钛矿电池客户数量超过20家,设备成熟,得到客户的高度认可。现场的热烈反馈印证了市场对高质量钙钛矿专用设备的迫切需求,理想晶延的钙钛矿空间型sALD设备,不仅展示了公司在下一代光伏技术装备的前瞻性布局和技术深度,更彰显了其助力行业突破瓶颈、推动光伏效率与成本极限的决心。 明日就是SNEC 2025 展会的最后一天啦!理想晶延将继续热情展出,期待与还未到访的朋友共襄盛会!诚邀莅临!
11
2025-06
公司新闻
荣耀时刻 | 理想晶延公司和奚明博士双双荣膺2025 APVIA亚洲光储奖【科技成就奖】
6月11日,2025 APVIA 亚洲光储奖评选结果盛大揭晓!理想晶延公司和总经理奚明博士,凭借在光伏核心制造设备领域创造性的科研成果与产业化突破,双双荣膺【科技成就奖】。“APVIA亚洲光储奖”是亚太地区最具影响力的行业奖项之一,奖项聚焦“产能创新、能源转型领导力、技术可拓展性”等多元维度,覆盖光伏全产业链,旨在表彰在光储领域推动技术革新、实现产业化落地的标杆企业及行业领袖。理想晶延长期致力于为全球客户提供高性能原子层沉积镀膜创新解决方案,并与多家光伏头部企业深度合作,获得了批量化应用及增效数据,成功取得多家光伏企业GW级订单。此次获奖,彰显了奚明博士在技术驱动发展的战略前瞻性,以及公司坚持自主创新、推动光伏产业革新的高度认可。未来,理想晶延将持续深化行业前沿薄膜沉积技术研发,为全球能源转型提供国产化解决方案。
11
2025-06
公司新闻
SNEC 2025闪耀开局 | 理想晶延首日人气爆棚,创新技术引热现场
全球光伏盛会 SNEC PV+ 2025 今日盛大启幕!理想晶延展台(展位号:2.1H馆 C510)一经亮相,便迎来澎湃人潮,成为会场焦点区域!慕名而来的全球客户、行业专家、合作伙伴及媒体朋友络绎不绝,共同见证理想晶延在先进光伏装备领域的最新突破。现场氛围持续火热!来宾们对理想晶延此次重点展出的创新技术表现出浓厚兴趣,展台区域始终人头攒动。技术专家团队与来访观众就产品性能、应用前景等展开了深入交流与热烈讨论,互动体验区更是挤满了积极交流的行业同仁。现场详实的技术资料解答了众多客户的深度疑问,充分展现了理想晶延的技术实力与服务诚意。 作为首日掀起巨大声浪的核心明星产品之一,理想晶延业内首创侧壁钝化EPD设备,有效解决电池片边缘精密钝化难题,可助力客户突破效率瓶颈,提升电池良品率和功率档次,确保大规模量产的成本控制。该设备具有钝化效果好、工艺时间短、无粘片、TMA和电力耗量低、运营成本低等优势。截至2024年底,理想晶延侧壁钝化EPD设备陆续出货多家客户,天合、晶科、通威、正泰、阿特斯、捷泰等光伏企业,已进行了钝化效率验证和量产验证,获得了批量化的提效数据,侧面钝化组件功率提升达到5W+。理想晶延侧壁钝化EPD二代机进行多项优化升级满足在线与离线的设计需求,以桁架传输代替倍速链降低了腔内钝化污染风险,升级版料盒减少了绕镀和碎片风险,大产能设计满足客户在线需求,集成化设计减小了机台尺寸并缩短了安调时间。截至2025 SNEC展会前夕,理想晶延EPD侧镀机台已获得多家光伏企业GW级订单。 此次顺利展出,不仅体现了理想晶延在关键核心工艺装备上的自主创新能力,更彰显公司赋能客户提升光伏产品价值的坚定决心。首日的热烈反响,让团队备受鼓舞。SENC2025精彩仍在继续!明日(6月12日),请继续锁定理想晶延展台(展位号:2.1H馆 C510),期待与您相会!
10
2025-06
公司新闻
明天见!理想晶延SNEC 2025 精彩速递
1 2 3 4 5