近日，理想晶延钙钛矿电池设备出货的喜讯连连，自主研发的钙钛矿ALD研发设备已从海宁工厂顺利出货，成功交付至两家国内一线光伏企业。这不仅标志着理想晶延在钙钛矿业务领域全面的布局和成熟的产品交付能力，也展示了我们在行业内的品牌影响力！本次交付的钙钛矿ALD研发设备，具备较强的兼容性，可适应300×400mm及以下尺寸的基板。设备工艺温度从80℃至300℃可调，成膜均匀性控制在3%以内。同时，该设备采用空间型ALD技术，其工艺配方和相关技术经验可以转移到未来量产型ALD设备上。 理想晶延现已构建起从研发到中试，再到GW级量产的钙钛矿电池全系列设备，可为客户提供多样化的量产装备解决方案，持续为行业创造价值。展望未来，理想晶延将继续以客户为中心，秉承专业专注、相互尊重、共同成就的发展理念，积极满足客户需求，探索行业发展趋势，为客户和行业创造更大价值。

6月15日，2024SNEC第十七届光伏展在上海国家会展中心圆满收官。历时三天的行业盛会中，理想晶延展台接待了众多行业内专家与参展观众，诚挚的分享得到专业的肯定，可谓收获满满！展会期间，理想晶延展台备受瞩目，现场技术人员耐心细致的讲解与热情接待，吸引了广大访客驻足交流！究竟是什么样的尖端产品与技术方案，让理想晶延展台人潮涌动呢？本期就为大家隆重解读本次展会重磅产品——全新一代iALD-V设备。 全新一代iALD-V设备 性能显著优势卓著 理想晶延全新一代iALD-V设备，是在广受市场好评的四代产品基础上，进行了多项改进与突破，尤其适配TOPCon工艺。针对大尺寸电池钝化和良率具有显著的增效优势，相对前一代机型， iALD-V设备不仅产能大幅度提升，更进一步降低了维保成本，将有效助推高效太阳电池降本增效和提速发展。整片产能提升37%（182电池片），45%（210电池片），半片产能不缩减工艺窗口宽，3-8nm膜厚产能维持不变优异的AlOx钝化效果，大尺寸N型电池转化效率高任何电池尺寸下，绕镀小于0.5mm碎片率低≤0.01%，在大尺寸薄片、半片上优势明显单次维保时间缩短56%，维保周期延长至33天以上维保成本下降30% 2024 SNEC光伏展虽已落幕，但理想晶延创新之路永无止境。公司将坚持“以客户为中心，专业专注，互相尊重，共同成就”的发展理念，紧握行业发展需求与核心问题，创新驱动，持续为广大客户提供降本增效、稳定安全的产品设备与解决方案，为光伏产业高质量发展贡献力量。 最后，衷心感谢所有莅临现场以及长期关注理想晶延的广大客户和合作伙伴们！我们仍将逐光而行，未来可期！

作为全球颇具影响力的国际光伏盛会之一，2024SNEC光伏展正在上海国家会展中心如火如荼进行中。据官方介绍，本次参展企业数创历年之最，有来自全球95个国家和地区的3500多家企业集中参展。展会现场行业硬核科技频频“出圈”，业界创新产品舞弄“新潮”。理想晶延凭借十余年光伏高端装备研制经验，更是创新领航不遑多让，此次展会带来的公司自主研制的重磅黑科技，惊艳亮相NH馆-A330展台，吸引了众多行业专家以及从业人士咨询驻足，展台气氛高涨热烈！那么，本期就为大家重点揭秘理想晶延“人气力作”——空间域钙钛矿电池SALD系列镀膜设备！在光伏技术的前沿领域，钙钛矿太阳能电池以其高转化效率、低成本和低能耗脱颖而出，被誉为光伏行业的"新希望"。理想晶延作为技术创新的先锋，自主研发的空间域SALD镀膜设备，为钙钛矿太阳能电池的产业化进程注入了新动力。面对其他ALD技术在成膜速度和制程时间上的局限性，理想晶延空间域SALD镀膜设备实现了革命性的突破，不仅保持了ALD技术成膜致密性和保形型优势，更以快速成膜、工艺时间短和高产能的技术特点，极大程度满足大尺寸钙钛矿量产需求。理想晶延空间域ALD设备采用先进的空间物理和惰性气体隔离，确保ALD反应高效进行。通过精确的供气系统控制，保证镀膜源使用周期内的工艺稳定性。可选配多种镀膜源，实现SnOx, AlOx, ZnOx, NiOx等薄膜沉积，兼容行业主流玻璃和硅片尺寸，最大玻璃镀膜尺寸可达1.2ⅹ2.4m，镀膜均匀性控制在5%以内。 不仅如此，理想晶延钙钛矿用空间域SALD镀膜设备经国内外钙钛矿电池头部企业的量产验证，获得了客户高度认可，成为推动钙钛矿产业化进程的重要力量。公司产品不仅覆盖了从实验室研发到GW级量产的全系列设备，更以卓越的性能和可靠性，赢得了市场的广泛赞誉。实验机中试机量产机随着钙钛矿电池技术的日趋成熟，理想晶延积极以自主创新技术赋能产业升级，推动高效电池的规模化应用。未来公司将持续致力于光伏与半导体高端装备的创新发展，深度聚焦硬核科技产品力，以更优质的镀膜设备，助推光伏行业可持续发展。同时，也诚挚邀请您莅临国家会展中心NH馆-A330展台，与理想晶延一起共谋零碳新未来！

6月13日，一场科技与绿色能源碰撞的国际盛宴，SNEC第十七届光伏展在上海国家会展中心正式拉开帷幕。理想晶延作为行业薄膜沉积高端装备创新先行者，携公司自主研制的系列镀膜设备产品及技术方案精彩亮相。此次展会理想晶延会带来哪些重磅产品与技术方案呢？我们将分三期为大家一一揭秘！本期内容，我们重点呈献理想晶延全新量产的侧壁钝化EPD技术与设备。 硅片大尺寸结合激光划片已成为行业主流选择。半片电池封装组件具有更低的封装损失，更低的阴影影响，更低的热斑温度等优势。但电池切割后非钝化侧边引入复合中心，特别是耗尽区复合对电池性能的影响越来越显著，影响电池复合电流密度，引起电池效率损失。2023年初，理想晶延率先开展电池划片切割面损伤及修复研究，EPD （ Edge Passivation Deposition）半片电池切割面钝化技术取得显著突破，电池划片边缘特性全面优化，显著降低电池边缘复合损失，提升组件抗阴影能力，减少缺陷，稳定提升组件效率。公司侧壁钝化技术得到头部客户的实验认可，30多万片结果验证组件功率稳步提升3.5W以上。2023年底，理想晶延量产侧壁钝化EPD设备成功出货，为光伏产业电池提效树立新里程碑，行业头部企业量产组件功率平均提升4W以上，最高可提升超5.9W。理想晶延EPD设备，采用空间型原子层沉积ALD技术沉积40-70nm氧化铝薄膜，可实现电池切割面良好覆盖，具有表面钝化性能优良，侧边绕镀少，沉积速度快，产能高，量产成本低等优势。此外，量产型EPD设备可支持离线或在线生产方案，与现有产线及新建产线良好兼容，设备占地面积小，工艺与前后道工序匹配性好，可兼容各种尺寸电池片，是提升电池性能和组件功率的理想设备。 以上就是本期分享内容！下一期我们将走近理想晶延钙钛矿电池系列设备，敬请期待！也欢迎大家前往2024 SNEC 理想晶延展台（NH馆-A330）咨询了解，更多行业一线技术与解决方案等您现场揭秘！