理想晶延作为以气相沉积技术为核心的高效光伏电池设备提供商，陆续推出的涵盖PERC+电池、TOPCon电池生产的系列工艺设备受到广泛的关注，本次展示更是精彩纷呈，亮点迭出。

亮点1 高效光伏ALD镀膜设备（iALD-IV）产能再升级

平板In-Line ALD设备兼容156-230硅片尺寸，适用于P型与N型电池技术路线。设备采用单面水平镀膜工艺，ALD四代机产能创新高：182硅片产能≥14500片/小时、210硅片产能≥10800片/小时。

设备具有良好的AlOx钝化效果，大尺寸N型电池转化效率高，工艺窗口宽、绕镀少、碎片率低、综合良率高，适合规模化量产。

亮点2 高效光伏管式PECVD双面镀膜系统创业界新方案

自主创新的腔体内高温旋转机构，实现一次完成电池片正反面镀膜（可镀膜：Al₂O₃，SINx，SIOxNy，SIOx的一种或多种）。双面镀膜后应力抵消，改善单面镀膜应力不均造成的碎片和划伤，适合硅片大面积、薄片化趋势。双面镀膜相对传统方式节省了自动化步骤，且自动化可以做到1拖2。
       亮点3  TOPCon电池Ox-Poly Si解决方案震撼上市

理想晶延自主设计的采用热氧化遂穿氧化层搭配原位掺杂PECVD Poly-Si，完成TOPCon电池背面核心结构。氧化层质量高，效果稳定，重复性好，设备投资成本低，PECVD设备产能大，石英炉管和载具维护成本低，使用成本低。

除上述新产品外，理想晶延还展示了低压管式磷扩散、硼扩散设备以及低压管式氧化退火设备等系列新型产品。近年来，理想晶延坚持以市场为导向，深耕光伏新能源设备产品，持续以优质产品服务客户，推进降低光伏发电度电成本实现平价上网，助力国家“碳达峰、碳中和”战略目标的成功达成。