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理想晶延精彩亮相SNEC第十五届(2021) 国际太阳能光伏展会
来源: | 作者:理想晶延 | 发布时间: 2021-06-08 | 1768 次浏览 | 分享到:

202163日,第十五届(2021)国际太阳能光伏与智慧能源(上海)大会暨展览会在上海新国际博览中心隆重开幕。展会上,理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司以“理想晶延光伏设备解决方案”为主题,重点展出了182&210硅片尺寸TOPConPERC+的大趋势下,公司的设备及工艺解决方案。


理想晶延作为以气相沉积技术为核心的高效光伏电池设备提供商,陆续推出的涵盖PERC+电池、TOPCon电池生产的系列工艺设备受到广泛的关注,本次展示更是精彩纷呈,亮点迭出。

亮点1 高效光伏ALD镀膜设备(iALD-IV)产能再升级

平板In-Line ALD设备兼容156-230硅片尺寸,适用于P型与N型电池技术路线。设备采用单面水平镀膜工艺,ALD四代机产能创新高:182硅片产能≥14500/小时、210硅片产能≥10800/小时。

设备具有良好的AlOx钝化效果,大尺寸N型电池转化效率高,工艺窗口宽、绕镀少、碎片率低、综合良率高,适合规模化量产。

亮点2 高效光伏管式PECVD双面镀膜系统创业界新方案

自主创新的腔体内高温旋转机构,实现一次完成电池片正反面镀膜(可镀膜:Al2O3SINxSIOxNySIOx的一种或多种)。双面镀膜后应力抵消,改善单面镀膜应力不均造成的碎片和划伤,适合硅片大面积、薄片化趋势。双面镀膜相对传统方式节省了自动化步骤,且自动化可以做到12
       
亮点3  TOPCon电池Ox-Poly Si解决方案震撼上市

理想晶延自主设计的采用热氧化遂穿氧化层搭配原位掺杂PECVD Poly-Si,完成TOPCon电池背面核心结构。氧化层质量高,效果稳定,重复性好,设备投资成本低,PECVD设备产能大,石英炉管和载具维护成本低,使用成本低。

除上述新产品外,理想晶延还展示了低压管式磷扩散、硼扩散设备以及低压管式氧化退火设备等系列新型产品。近年来,理想晶延坚持以市场为导向,深耕光伏新能源设备产品,持续以优质产品服务客户,推进降低光伏发电度电成本实现平价上网,助力国家“碳达峰、碳中和”战略目标的成功达成。



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