作为全球颇具影响力的国际光伏盛会之一，2024SNEC光伏展正在上海国家会展中心如火如荼进行中。据官方介绍，本次参展企业数创历年之最，有来自全球95个国家和地区的3500多家企业集中参展。展会现场行业硬核科技频频“出圈”，业界创新产品舞弄“新潮”。 理想晶延凭借十余年光伏高端装备研制经验，更是创新领航不遑多让，此次展会带来的公司自主研制的重磅黑科技，惊艳亮相NH馆-A330展台，吸引了众多行业专家以及从业人士咨询驻足，展台气氛高涨热烈！那么，本期就为大家重点揭秘理想晶延“人气力作”——空间域钙钛矿电池SALD系列镀膜设备！在光伏技术的前沿领域，钙钛矿太阳能电池以其高转化效率、低成本和低能耗脱颖而出，被誉为光伏行业的"新希望"。理想晶延作为技术创新的先锋，自主研发的空间域SALD镀膜设备，为钙钛矿太阳能电池的产业化进程注入了新动力。 面对其他ALD技术在成膜速度和制程时间上的局限性，理想晶延空间域SALD镀膜设备实现了革命性的突破，不仅保持了ALD技术成膜致密性和保形型优势，更以快速成膜、工艺时间短和高产能的技术特点，极大程度满足大尺寸钙钛矿量产需求。 理想晶延空间域ALD设备采用先进的空间物理和惰性气体隔离，确保ALD反应高效进行。通过精确的供气系统控制，保证镀膜源使用周期内的工艺稳定性。可选配多种镀膜源，实现SnOx, AlOx, ZnOx, NiOx等薄膜沉积，兼容行业主流玻璃和硅片尺寸，最大玻璃镀膜尺寸可达1.2ⅹ2.4m，镀膜均匀性控制在5%以内。不仅如此，理想晶延钙钛矿用空间域SALD镀膜设备经国内外钙钛矿电池头部企业的量产验证，获得了客户高度认可，成为推动钙钛矿产业化进程的重要力量。公司产品不仅覆盖了从实验室研发到GW级量产的全系列设备，更以卓越的性能和可靠性，赢得了市场的广泛赞誉。  随着钙钛矿电池技术的日趋成熟，理想晶延积极以自主创新技术赋能产业升级，推动高效电池的规模化应用。未来公司将持续致力于光伏与半导体高端装备的创新发展，深度聚焦硬核科技产品力，以更优质的镀膜设备，助推光伏行业可持续发展。同时，也诚挚邀请您莅临国家会展中心NH馆-A330展台，与理想晶延一起共谋零碳新未来！

6月13日，一场科技与绿色能源碰撞的国际盛宴，SNEC第十七届光伏展在上海国家会展中心正式拉开帷幕。理想晶延作为行业薄膜沉积高端装备创新先行者，携公司自主研制的系列镀膜设备产品及技术方案精彩亮相。此次展会理想晶延会带来哪些重磅产品与技术方案呢？我们将分三期为大家一一揭秘！本期内容，我们重点呈献理想晶延全新量产的侧壁钝化EPD技术与设备。 硅片大尺寸结合激光划片已成为行业主流选择。半片电池封装组件具有更低的封装损失，更低的阴影影响，更低的热斑温度等优势。但电池切割后非钝化侧边引入复合中心，特别是耗尽区复合对电池性能的影响越来越显著，影响电池复合电流密度，引起电池效率损失。2023年初，理想晶延率先开展电池划片切割面损伤及修复研究，EPD （ Edge Passivation Deposition）半片电池切割面钝化技术取得显著突破，电池划片边缘特性全面优化，显著降低电池边缘复合损失，提升组件抗阴影能力，减少缺陷，稳定提升组件效率。公司侧壁钝化技术得到头部客户的实验认可，30多万片结果验证组件功率稳步提升3.5W以上。2023年底，理想晶延量产侧壁钝化EPD设备成功出货，为光伏产业电池提效树立新里程碑，行业头部企业量产组件功率平均提升4W以上，最高可提升超5.9W。理想晶延EPD设备，采用空间型原子层沉积ALD技术沉积40-70nm氧化铝薄膜，可实现电池切割面良好覆盖，具有表面钝化性能优良，侧边绕镀少，沉积速度快，产能高，量产成本低等优势。此外，量产型EPD设备可支持离线或在线生产方案，与现有产线及新建产线良好兼容，设备占地面积小，工艺与前后道工序匹配性好，可兼容各种尺寸电池片，是提升电池性能和组件功率的理想设备。 以上就是本期分享内容！下一期我们将走近理想晶延钙钛矿电池系列设备，敬请期待！也欢迎大家前往2024 SNEC 理想晶延展台（NH馆-A330）咨询了解，更多行业一线技术与解决方案等您现场揭秘！

2024年3月28-29日，由摩尔光伏主办、行业大咖云集的第六届光伏电池组件发展趋势与可靠性技术研讨会在北京隆重召开。理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司（简称“理想晶延”）受邀出席活动，公司工艺技术总监苏青峰博士以《PET边缘钝化技术助力光伏电池提效》为主题，与现场嘉宾分享了公司EPD设备在半片电池侧壁钝化上的创新技术和应用效果，并就光伏电池进一步增效进行了交流探讨。大会上，苏青峰博士深入浅出地讲解了理想晶延EPT边缘钝化技术和EPD设备的独特优势与创新突破。他表示，公司技术团队针对侧面镀膜难、绕镀大、兼容性差、产能小等工艺痛点，研制出适应电池侧切面镀膜量产高产能ALD反应腔体，采用腔体兼容性设计方案解决了电池绕镀大的难题并满足焊接拉力的要求，符合侧切面边缘镀膜适配电池印刷线产能的工艺节拍需求。EPD设备具有完全自主知识产权的全自动镀膜系统、前驱体区隔系统和自动化传输系统，使电池侧切面镀膜边缘钝化全自动量产达到所需的膜厚、绕镀、均匀性等多项关键指标。该产品通过对半片或多切片电池切面提供有效钝化，显著提升了光伏电池组件转换效率。目前，理想晶延EPD设备已批量出货，电池提效和设备产能等指标获得客户现场工艺验证。同时，公司着重核心技术应用于高效生产，针对行业电池车间现有产线和新增产线设计了完善的量产方案，确保产品达到高品质、高效率、高水平的生产标准，可满足客户多元化定制需求。未来，理想晶延将以推动光伏与半导体高端装备的创新发展为己任，秉承“以客户为中心、专业专注、相互尊重、共同成就”的经营理念，持续深耕行业前沿薄膜沉积工艺技术，深入研制经济可靠的设备产品和工艺方案，赋能客户技术创新、产品升级以及价值创收，助推新能源和集成电路产业蓬勃发展。 

日前，理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司凭借在光伏高端装备领域出色的技术优势与创新业绩，荣获“上海市企业技术中心”授牌！这是2023年度理想晶延继再次获评高新技术企业及上海市“专精特新”中小企业后，通过上海市企业技术中心认定的又一重量级企业资质荣誉！“上海市企业技术中心”的评选，是上海市加强以企业为主体的技术创新体系建设的重要举措，由上海市经济和信息化委员会、上海市财政局、上海市税务局、上海海关联合审核认定。入选企业需处所在行业的领先地位，且具备较强科研技术实力、持续较高的科研投入、行业示范导向作用等条件，能够引领产业技术进步和创新能力提升。 理想晶延创立十余年来，锚定光伏与半导体高端装备行业创新发展，依托“国家特聘专家”领衔的高精尖人才团队，构建了全面的光伏与半导体高端装备技术研发体系。公司具有完全自主知识产权的板式ALD、管式CVD、侧壁钝化EPD、钙钛矿SALD系列设备产品，稳定高效、大产能薄膜沉积工艺，满足各类高效太阳电池技术研发及规模量产需求，有效提升客户产品特性和价值，赋能探寻行业极致降本增效。 此次荣获“上海市企业技术中心”认定，不仅是主管部门对理想晶延创新能力和成果的认可，也是对公司未来发展提出了更高水准的要求与希望！理想晶延将以此为动力，持续完善企业创新机制，聚合多方资源，升华核心优势，打造高水平的科技创新平台，助推民族自主品牌迈向全球、引领行业技术发展！