021-5027 6825
欢迎来到理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司网站!
管式低压硼扩散设备
    发布时间: 2021-11-06 20:09    
管式低压硼扩散设备

特色


  • 双炉门设计,悬臂桨结构,降低工艺时间,延长石英管寿命 

  • 垂直插片,解决均匀性分层问题 

  • 多段可控进气功能,实现整舟工艺一致性 

  • 增加炉尾匀流板设计,提升炉尾方阻均匀性 

  • 温度范围500-1250℃,温度精度≤±0.5℃ 

  • BCl3气态源,减少石英件黏连,运营成本大幅降低 

  • 配备湿氧系统,显著降低工艺时间 

  • 适应166-230大尺寸硅片


产品中心