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管式PECVD Poly-Si镀膜设备
    发布时间: 2021-11-06 20:07    
管式PECVD Poly-Si镀膜设备

特色：


  • 本征或原位磷掺杂工艺 

  • 适应166-230大尺寸硅片 

  • 良好的PECVD Poly-Si钝化性能 

  • 氧化层质量高，效果稳定，重复性好，设备投资成本低 

  • PECVD设备产能大，维护成本低，使用成本低


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