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管式PECVD双面镀膜设备
    发布时间: 2021-11-06 20:04    
管式PECVD双面镀膜设备

特色


n 单台设备实现电池片正反面镀膜(可镀膜:Al2O3,SINx,SIOxNy,SIOx的一种或多种),适应166-230大尺寸硅片 

n 双面镀膜后应力抵消,减少单面镀膜应力不均造成的碎片和划伤,适合硅片大面积、薄片化趋势 

n 双面镀膜相对传统方式节省了取片插片步骤 

n PERC电池:三步镀膜集成在一管内完成,在设备投资成本和整线良率(碎片率)上优势明显 

n TOPCon电池:正面钝化ALD Al2O3+双面镀膜SiNx,保证效率优势、兼顾良率


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