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板式ALD镀膜设备

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管式PECVD双面镀膜设备

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钙钛矿电池ALD系列设备

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<p style=";text-align:left;direction:ltr;unicode-bidi:embed"><span style="font-size:24px;font-family:微软雅黑;color:black;font-weight:bold">特色<br/><span style="font-size:21px"><span style=";color:#C6615F;font-family: Wingdings">n</span></span><span style="font-size:21px;font-family:微软雅黑;color:black"> 空间型旋转式和平板式原子层沉积工艺设备，有效应对钙钛矿电池研发、中试和量产</span> <span style="font-size:21px"><span style=";color:#C6615F;font-family: Wingdings">n</span></span><span style="font-size:21px;font-family:微软雅黑;color:black"> 原子</span><span style="font-size:21px;font-family:微软雅黑;color:black">层</span><span style="font-size:21px;font-family:微软雅黑;color:black">沉积氧化锡工艺成熟，对钙钛矿层无损伤</span> <span style="font-size:21px"><span style=";color:#C6615F;font-family: Wingdings">n</span></span><span style="font-size:21px;font-family:微软雅黑;color:black"> 镀膜速率高，氧化锡膜层均匀性好</span> <span style="font-size:21px"><span style=";color:#C6615F;font-family: Wingdings">n</span></span><span style="font-size:21px;font-family:微软雅黑;color:black"> 兼容各种尺寸玻璃和硅片</span></span></p><p><br/></p>

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