理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司

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氧化铝ALD设备

特色

· 全新一代ALD-V机台产能较上一代显著提升，整片提升37%(182)、45%(210)，半片节拍不缩减
· 优异的AIOx钝化效果，大尺寸N型电池转化效率高
· 工艺窗口宽，3-8nm产能不变
· 绕镀小于0.5mm，碎片率低
· 单次维保时间缩短56%，维保周期延长至33天

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