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管式PECVD单面镀膜设备
    发布时间: 2021-11-06 20:07    
管式PECVD单面镀膜设备

特色


  • 可镀膜Al2O3,SINx,SIOxNy,SIOx的一种或多种,适应166-230大尺寸硅片 

  • 炉口环形进气方式与分布,大尺寸下镀膜均匀性<4% 

  • 闭管软着陆,悬浮承载舟结构 

  • 三水冷法兰结构,密封圈寿命长 

  • 缓存位采用冷却水循环散热+风扇冷却方式,减少环境制冷能耗

  • LIFT上下舟采用取放平衡对称方式,增强机械手稳定性


产品中心