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理想晶延荣获2018年度上海市科技进步二等奖
来源: | 作者:pro4507d9 | 发布时间: 2019-05-15 | 311 次浏览 | 分享到:


20195月,理想晶延半导体设备(上海)有限公司的ALD太阳能电池生产的原子层沉积设备研制项目”,喜获上海市科技进步二等奖。该重量级奖项设立单位为上海市人民政府,旨在奖励科学发现和技术发明原始性创新、促进经济发展方式转变和培育战略性产业、促进城市安全、健康生态发展和推进区县创新能力和经济发展的重大科技成果。上海市科技进步奖,是省市范畴内对科学技术的最高奖励之一。
                                  


                                          

           原子层沉积(ALD)技术可以精确控制成膜原子组成,均匀性高,极薄的膜厚即可达到良好的钝化效果。但是由于成膜速度慢,工业化量产应用一直受到制约。2016年底前,国际国内市场上PERC电池镀膜核心设备基本被德国MayerBerger公司(以下简称MB)和荷兰Solaytec公司垄断。两家公司的市场占有率在90%以上。理想晶延在综合国外设备优点的基础上,立足自主创新,通过攻克了多项关键技术,创造性的技术设计,开发出全球首创的平板式在线ALD设备,既保持了ALD方式优点,又结合了平板式在线设备运行稳定的优点,克服 ALD设备卡片、碎片的问题, 运行成本和开机率均超过市场上主流国外设备,打破了原来由欧美日等国际设备巨头的市场垄断。在2017年取得近30%的市场份额,一举成为光伏电池镀膜设备领域里拥有国际领先技术的重要供应商。

                                             

在基于该系列产品的研发过程中,理想晶延研发团队不断创新,勇于突破,打破惯性思维,已取得22项发明专利、2项实用新型专利、8项软件著作权,受理中发明专利6项,各专利技术集中应用于该系列产品中,技术优势明显。

   该套设备研制难度大,对于生产要求较高,具有集成度高、涉及行业多的特点,需要社会化大协作才能完成。不仅促进新能源工业的发展,同时也带动了其相关产业链如机械、电子、半导体等行业的发展。同时,展现了理想晶延在先进制造、重大装备的设计、生产等方面的协作能力。


                                                


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